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剥离剂和蚀刻剂

剥离剂和蚀刻剂

剥离剂和蚀刻剂可高效的对陶瓷,绝缘层,半导体和多种金属底层上的氧化锡/铟氧化锡沉淀膜进行蚀刻,具有边界清晰,蚀刻速度可控的特性,与正负性光刻胶良好兼容。

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产品详情


剥离剂和蚀刻剂工艺应用参数

型号

Potosil®S50

Alusil®G30

Alusil®L50

用途

主要的成分

有机溶剂+添加剂

碘化钾

H2O2 + 有机酸

外观

透明,略带黄色

棕色液体

清除

粘度(cps 20℃)

3

< 2

1.1

比重(

20)

1.10 ± 0.05

1.10 ± 0.05

1.0 ± 0.1

pH ( 20℃)

-

< 5

< 2

保质期

12月

12月

6月

用途

光刻胶剥离剂

Au蚀刻剂

Cu蚀刻剂


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